来源:wikichip) 尽管EUV光刻机相当之贵,接近1.2亿美元一台,但半导体厂商还是愿意去投入,因为7nm以及以上的工艺的确需要EUV光刻机,几时同样的7nm工艺,使用EUV
2020-07-07 14:22
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造,结果会怎样?
2020-06-10 19:23
!光刻机本身的原理,其实和相机非常相似,同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理,是被摄物体被光线照射所反射的光线,透过相机的镜头,将影像投射并聚焦在相机的底片(感光元件)上,如此便可
2020-09-02 17:38
据羊城晚报报道,近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机,顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区,中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机,主要用于企业复工复产后的
2021-07-29 09:36
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03
微米之间,此间隙可以大大减少对掩膜版的损伤.接近式暴光的分辨率较低,一般在2~4微米之间,因此接近式光刻机只能装配在特征尺寸交大的集成电路生产线中.接触或接近式光刻机的主要优点是
2012-01-12 10:56
今日分享晶圆制造过程中的工艺及运用到的半导体设备。晶圆制造过程中有几大重要的步骤:氧化、沉积、光刻、刻蚀、离子注入/扩散等。这几个主要步骤都需要若干种半导体设备,满足不同的需要
2018-10-15 15:11
芯片任重而道远。2.国内单片机芯片:晶圆硅提纯时需要旋转,然后进行切割成晶圆。晶圆加工的过程有点繁琐。首先在晶圆上涂一层感光材料(见光融化),光刻机提供精准的光线,在感光材料上刻出图案,让底下的晶圆裸露出
2018-09-03 16:48
被显影液溶解,获得的图形与掩模版图形互补。负性抗蚀剂的附着力强、灵敏度高、显影条件要求不严,适于低集成度的器件的生产。 半导体器件和集成电路对光刻曝光技术提出了越来越高的要求,在单位面积上要求完善传递
2012-01-12 10:51
和荷兰学习交流,学他的技术,当然要付出代价,比如财富和他想要的东西,真诚相待,会成功的,还可以引进的的人才和技术,在和他学艺,联姻,总之就是把技术学到手。
2022-11-20 08:48