翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座
2019-07-01 07:22
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
芯片是怎么产生技术
2019-05-09 02:46
的生产厂家并不多，在２８纳米以上线宽的时代，日本的佳能和尼康都能制造（对，就是造单反相机的那个佳能和尼康），但是ＩＣ制程工艺进步到十几纳米以下时，佳能和尼康就落后了，基本退出了光刻机市场。目前，世界上唯一
2018-06-13 14:40
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
`当生产的速度高，而消费的速度低时，队列中保存有数据。按下停止后，继续消费，直到数队列清空，也就是生产出来的数据用完。可是发现消费的数据总是比生产的数据多一个，且总是为0.原因？`
2011-12-19 11:08
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
问题现象：批量生产出现几十台类似的问题，有问题的设备的ADE7953芯片的A电流通道初始化后的读出来的电流值与实际值偏差过大，以致无法进行后续的校准。而且测得的电流的线性度也很差。更换芯片后能够
2019-02-20 06:51
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
相信很多硬件工程师，都遇到过因为芯片批次而导致的项目问题，比如不同批次芯片功耗差异大、耐压不同等。不同批次的芯片，虽然在工艺、设计、原料等方面相同，但可能因为晶圆厂、封装测试等不同，导致
2023-03-09 11:52
