电子产品的辐射怎样产生的?可以生产出没有辐射的电子产品吗?
2012-04-08 21:23
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
` 本帖最后由 吾非希望 于 2013-9-21 19:49 编辑 我要生产一个类似像码表一样的产品，可我是单片机的初学者。其中涉及功能有：蓝牙、和一些简单的中断运算，没有了，甚至连显示都没有
2013-09-21 19:45
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
的生产厂家并不多，在２８纳米以上线宽的时代，日本的佳能和尼康都能制造（对，就是造单反相机的那个佳能和尼康），但是ＩＣ制程工艺进步到十几纳米以下时，佳能和尼康就落后了，基本退出了光刻机市场。目前，世界上唯一
2018-06-13 14:40
报表式操作就会觉得很复杂。按键应该不吝成本，合理的设计可以使产品更亲切。大按键，大旋钮可以合理使用，尽可能多的靠近机床设备的使用方式。这样的产品生产出来可以直接提高10个销量。如果不信，可以先做
2023-04-18 16:02
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
料需要怎样的配比？铍、铜各占多少才能解决这一问题？需不需要经过其他的加工工序？怎样才能生产出坚固耐用的铍铜电极？
2022-07-21 09:22
`当生产的速度高，而消费的速度低时，队列中保存有数据。按下停止后，继续消费，直到数队列清空，也就是生产出来的数据用完。可是发现消费的数据总是比生产的数据多一个，且总是为0.原因？`
2011-12-19 11:08
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
