上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清
2022-08-04 17:18 伯东企业（上海）有限公司 企业号
半导体设备光刻机防震基座在 LCD 面板制造曝光机中的成功应用案例-江苏泊苏系统集成有限公司一、案例背景在 LCD（Liquid Crystal Display）面板制造领域，曝光
2024-12-24 14:43 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
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2022-03-18 10:25 北京革新创展科技有限公司 企业号
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2024-01-23 19:44 深圳市智物通讯科技有限公司 企业号
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2024-01-03 11:12 北京革新创展科技有限公司 企业号
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2024-10-18 13:42 伯东企业（上海）有限公司 企业号
