，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机，但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻的极限，所以Intel、三星和台积电都会在
2020-07-07 14:22
！光刻机本身的原理，其实和相机非常相似，同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理，是被摄物体被光线照射所反射的光线，透过相机的镜头，将影像投射并聚焦在相机的底片（感光元件）上，如此便可
2020-09-02 17:38
据羊城晚报报道，近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机，顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区，中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机，主要用于企业复工复产后的生产线扩容。我们知道
2021-07-29 09:36
锐科激光与特域冷水机什么关系？
2017-09-23 17:09
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造，结果会怎样？
2020-06-10 19:23
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03
这种先合光再分光的设计方案既使系统变得复杂，又使得光能利用率较低。 请问目前采用三基色激光投影显示的光学系统设计方案都是这样吗？激光光源能否实现类似于下图LED这样的设计？激光器能否像LED一样瞬时开关？
2025-02-28 07:11
我是做能消除激光散斑的投影系统设计的，之前买了DLPLCR6500 EVM，照明系统用三基色激光。请问三基色激光的时序该如何设定？这种外加的激光光源该如何配合DLPL
2025-02-28 08:15
【摘要】：利用两种腔镜组合对XeF激光光谱进行了研究。在同一实验条件下,可同时获得B—X和C—A两种跃迁的激光输出,XeF(B—X)激光比XeF(C—A)激光早800
2010-04-24 10:16
是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25
2012-01-12 10:56
