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  • 护形涂层有什么作用?如何去使用护形涂层

    护形涂层有什么作用?用作护形涂层材料有哪些?如何去使用护形涂层

    2021-04-22 06:14

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    、纤维、超细粒子、多层膜、粒子膜及纳米微晶材料等,一般是由尺寸在1~100nm的物质组成的微粉体系。那么究竟什么是新型纳米吸波涂层材料? 新型纳米吸波涂层

    2019-08-02 07:51

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    光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻

    2019-11-07 09:00

  • 193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

    翁寿松(无锡市罗特电子有限公司,江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU:(1)美国俄勒冈州Fab PID厂,2007年下半年量产;(2)美国亚利桑那州Fab 32厂,投资30亿美元,2007年末量产;(3)以色列Fab 28厂,投资35亿美元,2008年上半年量产;(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂,投资10~15亿美元,从90 nm过渡至45 nm,它是英特尔产首座300 mm晶圆厂,也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上,英特尔将于2009年推出32nmMPU,2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存,3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。

    2019-07-01 07:22

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    本人某985电子学院研一学生,我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做,前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了,让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会,就直接答应了

    2018-02-27 15:47

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    单面板的设计制造,单面板的主体是坚硬的绝缘材料,是环氧树脂玻璃纤维或者FR4,称之为基板,铜材料通过胶粘或者电沉积的方式贴在电路板的一面称为顶面。 光刻技术原理过程: 1、铜金属层包覆上一种叫做

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    2017-09-07 15:26

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