学着写自己的 Lcd_ShowChar() ，不想更改背景色（叠加模式）。看了一天的ili9320手册，还是没看明白。 原子弹程序是直接画点的，这样效率低点，我想直接更改GRAM。 目前我填充模式
2019-04-02 01:38
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过
2020-03-23 09:00
单片机难不难学?编程难不难?
2021-03-01 08:34
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
stm32和树莓派的区别在哪呢？树莓派一定比stm32难吗？STM32的三种架构之间有什么区别？
2022-01-26 06:00
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
系统中使用一个高精度的原子钟做基准驱动ADC芯片，不想外部加cpld分频了看资料说可以通过TM64P_IN12 做时钟输入基准TM64P_OUT做分频输出大家有没有这么
2019-07-10 08:22
单片机难不难？
2012-12-18 13:33
system/FONT下可以正常用，但是我自己建的也是12*12的GBK12.FON文件就不可以用，显示的时候字体就花了。而且不知道为什么我生成的FON文件总是比原子哥的FON文件大我生成的这个FON文件总是比
2019-07-29 04:02
