翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
谐振器促隐形超材料突破 概念股有望全面爆发 据媒体报道，近日美国爱荷华州立大学工程师研发了一种柔性、可伸缩的超材料外层（Meta-skin），声称能够帮助物体躲过雷达的侦察，并有望被用来制作隐形斗篷
2016-04-28 18:20
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
XX nm制造工艺是什么概念？为什么说7nm是物理极限？
2021-10-20 07:15
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
运放输入偏置电流的概念，模电课本及其网上各种资料的讲解都是一个方向的（流入运放电流的平均值),可是opa189的手册上标的输入偏置电流为±70pA，我仿真的结果却是偏置电流正输入端流入70pA,负
2021-08-04 17:32
的Debug通知DATAASHUSER定义了基于TrangeServer的数据包，而不是一个连续流。谢谢-克里斯
2019-10-23 07:02
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
用报表生成工具，根据模块生成报表并保存在文件，问题是：当按模板A生成报表写入文件之后，在按模板B生成的报表也写入同一文件后，会将A生成的覆盖。是想解决，按照不同模板一块一块写入同一个文件，就好像流水一样，不同的时间注入一股水，流入同一个地方，生成一个报表。
2014-08-11 14:46
单片机的8个常用概念
2021-03-29 06:25
