翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
STM32 MCU 是否有机会很快采用原生 i3c 支持？许多新设备，包括来自 ST 的一些设备（如 LPS22HH），都支持它。这是一个引人注目的（新的）标准。
2022-12-12 07:18
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
是否有机会获得 STM32MP157F 上 Vivante GPU 的免费文档？想要在裸机（自己的操作系统）项目上通过 GPU 支持硬件加速 2D（非 3D）。
2022-12-14 07:10
我们是否有机会看到 ESP BASIC 的 ESP32 或 M5Stack 版本？如果在 M5Stack 中安装带有 FACES 键盘的解释器，那将是不可思议的！
2023-05-10 08:22
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
你好是否有机会让 busfreq 驱动程序在主线内核上运行？在我看来，如果没有它，我无法以高于 1M 波特的速度可靠地运行 UART...（我正在寻找 3M 波特串行通信）
2023-04-18 10:30
我想使用 SDK 提供的 mDNS 功能。有没有机会通过 AT命令启动该功能？我以为我会自己实现这个命令。但是源代码，https://github.com/espressif/esp8266_at看起来过时了
2024-07-17 06:24
谐振器促隐形超材料突破 概念股有望全面爆发 据媒体报道，近日美国爱荷华州立大学工程师研发了一种柔性、可伸缩的超材料外层（Meta-skin），声称能够帮助物体躲过雷达的侦察，并有望被用来制作隐形斗篷
2016-04-28 18:20
能在此过程中断开连接。现在 STLinkUpgrade 显示“未知固件类型。不知道如何升级。”有没有机会恢复原始固件？还是我必须使用外部 ST-Link/购买新板？
2022-12-01 06:32
