喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过
2020-03-23 09:00
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
XX nm制造工艺是什么概念？为什么说7nm是物理极限？
2021-10-20 07:15
谐振器促隐形超材料突破 概念股有望全面爆发 据媒体报道，近日美国爱荷华州立大学工程师研发了一种柔性、可伸缩的超材料外层（Meta-skin），声称能够帮助物体躲过雷达的侦察，并有望被用来制作隐形斗篷
2016-04-28 18:20
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
用一维PSD光电位置传感器测水位高度，当水位上升或下降时，如果光电从对称的一侧移动到另一侧，X有正负的区别吗？
2015-05-26 12:49
` 本帖最后由 Sanny33 于 2016-10-13 11:14 编辑 振南电子大讲堂《单片机你问我答》 只要你问，我们就答、亲爱的烧友们：电子发烧友学院 联合 振南电子工作室 一同策划《振
2016-07-25 11:02
使用南旭给的光电传感器电路 连接好ST253C后 响应时间长达2mS 而资料显示为5uS 是什么原因造成的？？？ 用什么方法能够降低响应时间？？？
2012-05-07 15:34
各位好，多列表框中写入文本值是用二维字符数组，可是如果只想改变其中一单元格的文本，除了操作二维数据更新，还有其它的办法吗？二维数据每次更新是整个控件的文本值，可以改变某
2018-04-12 15:20
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
