关于光刻工艺的原理，大家可以想象一下胶片照片的冲洗，掩膜版就相当于胶片，而光刻机就是冲洗台，它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上，然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。 当然
2020-07-07 14:22
！光刻机本身的原理，其实和相机非常相似，同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理，是被摄物体被光线照射所反射的光线，透过相机的镜头，将影像投射并聚焦在相机的底片（感光元件）上，如此便可
2020-09-02 17:38
据羊城晚报报道，近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机，顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区，中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机，主要用于企业复工复产后的生产线扩容。我们知道
2021-07-29 09:36
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造，结果会怎样？
2020-06-10 19:23
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03
是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25
2012-01-12 10:56
好的时序是设计出来的，不是约束出来的时序就是一种关系，这种关系的基本概念有哪些？这种关系需要约束吗？各自的详细情况有哪些？约束的方法有哪些？这些约束可分为几大类？这种关系仅仅通过约束来维持吗？1
2018-08-01 16:45
组装工艺流程有以下6种，每种工艺对设备的要求有所不同，详细情况见表1。 表1 不同工艺流程对设备的要求不同 表1中特别提到的是单面混装中，A面THC和B面SMD的生产，板的工艺流程不同，设备
2018-11-27 10:18
即可，因为GCC编译环境下printf函数最终调用的是_write()函数。具体的详细情况就查看附件内容所示。
2016-07-05 10:14
详细情况看图 可加好友 有偿请教
2023-04-05 18:36
