顶级光刻机有多难搞?ASML的光刻机,光一个零件他就调整了10年!拿荷兰最新极紫外光EUV光刻机举例,其内部精密零件多达
2020-07-02 09:38
1822年法国人Nicephore niepce(尼埃普斯)发明了光刻机,起初是Nicephore niepce发现了一种能够刻在油纸上的印痕,当其出现在了玻璃片上后,经过一段时间的暴晒,透光的部分就会变得很硬,但是在不透光的部分可以用松香和植物油将其洗掉。
2022-01-03 16:59
光刻机是集成电路制造中最精密复杂、难度最高、价格最昂贵的设备,用于在芯片制造过程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。集成电路在制作过程中经历材料制备、掩膜、光刻、刻蚀、清洗、掺杂、机械研磨等多个工序,其中以光刻工序最
2020-03-18 11:00
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
光刻机是芯片制造最为重要的设备之一。目前,ASML垄断了全世界的高端光刻机。
2019-11-28 17:19
目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术,EUV使用的是深紫外
2022-07-10 14:53
不会有我们现在的手机、电脑了。 光刻机是用于芯片制造的核心设备,按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机和用于LED制造领域的投影光刻机。
2021-07-07 14:31
历数全球,也只有荷兰一家叫做阿斯麦(ASML)的公司集全球高端制造业之大成,一年时间造的出二十台高端设备,台积电与三星每年为此抢破了头,中芯国际足足等了三年,也没能将中国的首台EUV光刻机迎娶进门。
2020-09-04 10:28
光刻机的原理是接近或接触光刻,通过无限接近,将图案复制到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上,通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理。投影光刻是集成电路的主流
2022-07-10 15:28
光刻机的制造是一项复杂而精密的工艺,需要高度专业化的技术和设备。它涉及到许多关键的工艺步骤和组件,如光学系统、曝光光源、掩模制作等。
2023-07-04 17:48