翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
用arm9基于linux的图像识别难度有多大？求大神解答
2022-07-15 14:22
有一个项目，不大，主要是从卡中读取数据，然后做成动态显示。新手，想学习labView之后马上做。从事信息管理项目开发多年了，做过一年的嵌入式开发，请问这样的话难度大不大？谢谢不难的话，就接了。
2011-09-15 16:23
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有
2019-11-07 09:00
本帖最后由 1563661808 于 2014-4-8 10:35 编辑 现在我们有一个可以飞行的四轴飞行器，我们想做成有这么一些功能：让四轴飞行器感应到人体，然后用GPS定位，返回数据，然后自主飞行，跟踪那个人，如果可以，加上人脸识别。难度
2014-03-29 17:55
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
下来。结果是实验室之前根本就没做过器件方面的工作，相关方面也没有人有任何经验，只能我自己去摸索去学习，但一学期下来也没有什么头绪（学校里到是有光刻等器件制作平台可以随时预约使用），上学期也被老师说在混
2018-02-27 15:47
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
，什么采集卡，运动卡和外部I/O模块是应该用PAC还是用PC带各种板卡啊？此系统的图像处理结构要与伺服的运动配合还有 我现在已基本熟悉LABVIEW,直接做项目会有很大难度吗？LABVIEW有好多例程 好像可以直接调用呢.
2012-12-08 22:21
单片机自带的计数器频率有多大
2017-10-23 18:20
