光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有
2019-11-07 09:00
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
”……有几个工程师能安心到五六十岁还做技术？有几个企业愿意养这样的老工程师？ 总之，电子元器件的品类太多了，即使是
2018-06-13 14:40
下来。结果是实验室之前根本就没做过器件方面的工作，相关方面也没有人有任何经验，只能我自己去摸索去学习，但一学期下来也没有什么头绪（学校里到是有光刻等器件制作平台可以随时预约使用），上学期也被老师说在混
2018-02-27 15:47
组件通过接口组装起来以形成所需要的应用程序。构成应用程序的每一个组件都可以在不影响其他组件的前提下被升级。这里所说的组件是特指在二进制级别上进行集成和重用而能够被独立生产获得
2016-08-18 00:17
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
求能显示多个国家和时区时间的虚拟时钟。
2017-04-16 17:50
我们在PIC工作了5个月。现在我们正处于发展的最后阶段。因为我是这个领域的新手，我不确定哪一个程序员要用于大规模生产。目前我们正在使用ICD3。在生产中使用这个是一个开销。是否有PIC 32的
2019-09-06 14:35
客户需求，如何获取和设置国家代码？国家码：表示现有的国家、独立机构或特殊地理政治区域的名称代码。区别于移动网络代码：是与移动设备
2021-12-29 07:16
