据CNBC报道称，世界闻名的先进光刻机智造商荷兰AMSL公司正在研发一种新版本的EUV光刻机。
2022-06-18 08:13
大家都知道，芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在，全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机，那么euv光刻机目前几
2022-07-10 11:17
FilterPro v3.0设计工具的最新版本 TI推出其普及型 FilterProTM 设计工具的最新版本。该 FilterPro v3.0 更新了各种功能，如调节无源元件容差、查看
2010-05-17 13:36
光刻机用纳米位移系统设计
2025-02-06 09:38
PTC公司近日宣布推出Creo 5.0。这是Creo 3D计算机辅助设计(CAD)软件的最新版本，能让用户在单一设计环境中完成从概念设计到制造的全过程。在变化飞快的产品设计领域中，Creo 5.0推出了五个可提高生产力的新功能。
2018-04-26 10:12
Motor-CAD最新版本的电机NVH快速分析功能，可用于电机概念设计阶段快速对比不同设计方案的NVH水平，在设计初期定位潜在的共振频率段，指导电机NVH优化设计的方向。在本次电机仿真进阶研修班中，将对Motor-CAD最新版本的NVH功能做进一步介绍和现场演示，
2022-12-12 10:35
安捷伦科技有限公司(NYSE：A)日前发布 SystemVue 2011.10版本。该软件是面向无线物理层架构师的领先设计环境最新版本。
2011-11-29 17:12
从2009年开始算起，中国研究团队一路攻坚克难，国产首套90纳米高端光刻机已于近期第一次成功曝光。2022年左右有望完成验收。这意味着，中国半导体材料和设备（工艺技术）产业又向前跨出了关键一大步
2018-04-10 10:57
NI最新版本的ANSI C开发环境，助力提高应用开发效率与可靠性 美国国家仪器有限公司（National Instruments，简称NI）近日宣布推出LabWindows/CVI 2009，这是最新版本的ANSI C开发
2010-01-12 08:38
The MathWorks近日宣布发布最新版本2008b(R2008b)的MATLAB和Simulink产品家族。R2008b包含MATLAB和Simulink的新功能、2个新产品、19个主要
2008-11-12 10:24
