将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
当前人工智能快速发展，各种类人功能智能机器人层出不穷，触觉感知是人类和未来智能机器探索物理世界的基础性功能之一，发展具有触觉功能的仿生电子皮肤柔性感知器件，并实现器件与柔软组织间的机械匹配性具有重要的科学意义和应用价值。
2020-07-30 07:04
美国VR开发商Oculus VR首席科学家迈克尔·阿布拉西（Michael Abrash）近日撰文，阐述了人类视觉感知给虚拟现实（VR）发展带来的重大影响。作为人类，我们看到的影像其实都是视觉骗局
2019-07-29 07:35
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
交流电压档测试电压，交流电压的尖端电压高达1200V，问该如何消除此尖端电压？如果接电容能消除的话，接多大电容合适？谢谢，在线等。
2012-01-16 10:21
经验，包括与欧姆龙、西门子PLC的成功通信项目，目前人在郑州，可提供labview测试软件及上位机控制软件的编写，同时也可提供软硬件结合的控制策略；外地或郑州有意思都请跟我联系邮箱：601924437@qq.com ,贺先生TEL：150 0388 2812
2015-08-14 15:22
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
的生产厂家并不多，在２８纳米以上线宽的时代，日本的佳能和尼康都能制造（对，就是造单反相机的那个佳能和尼康），但是ＩＣ制程工艺进步到十几纳米以下时，佳能和尼康就落后了，基本退出了光刻机市场。目前，世界上唯一
2018-06-13 14:40
