的要求则反过来，我们要确保影像要绝对清晰，就要将对焦点落在光阻上，并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢？ 所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内，是不是有点
2020-09-02 17:38
`光刻机MPA500FAb用光栅尺传感器(扫描部位)供应。型号：SONY SR-721 150mm SCALE UNIT with HK-105C`
2020-01-31 18:04
）光刻技术，而GlobalFoundries当年也曾经研究过7nm EUV工艺，只不过现在已经放弃了。 而使用极紫外光（EUV）作为光源的光刻机就是EUV光刻机，当然这绝对不
2020-07-07 14:22
在芯片制造的复杂流程中，光刻工艺是决定晶体管图案能否精确“印刷”到硅片上的核心环节。而光刻Overlay(套刻精度)，则是衡量光刻机将不同层电路图案对准精度的关键指标。
2025-02-17 14:09
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。 光刻（Photolithography） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模
2020-08-28 14:39
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外
2022-07-10 14:53
光刻机，是现代光学工业之花，是半导体行业中的核心技术。 可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位，光刻机，是制造芯片的机器，要是没有了光刻机，我们就没有
2021-07-07 14:31
据中国证券报报道，3月6日下午从中芯国际获悉，日前中芯国际深圳工厂从荷兰进口了一台大型光刻机，但这是设备正常导入，用于产能扩充，并非外界所称的EUV光刻机。
2020-03-07 10:55
