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  • 193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

    翁寿松(无锡市罗特电子有限公司,江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU:(1)美国俄勒冈州Fab PID厂,2007年下半年量产;(2)美国亚利桑那州Fab 32厂,投资30亿美元,2007年末量产;(3)以色列Fab 28厂,投资35亿美元,2008年上半年量产;(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂,投资10~15亿美元,从90 nm过渡至45 nm,它是英特尔产首座300 mm晶圆厂,也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上,英特尔将于2009年推出32nmMPU,2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存,3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。

    2019-07-01 07:22

  • i.MX 6 UltraLite是否可以将裸机固件编程到内置内存中并就地执行?

    大家好, 我想将一些数据预编程到 OCOTP,但我不希望编程操作员获取明文数据。是否可以将裸机固件编程到内置内存中并就地执行?固件只做两件事:1. 解密数据 2. 对 OCOTP 进行编程。这样我就可以将密文中的数据提供给编程操作员

    2023-04-10 10:18

  • 用选项卡控件做一个不同级别用户登录的界面

    各位大侠,我想用选项卡做一个登录界面,不同级别的用户看到的内容不一样,例如操作员登录后只能看到选项卡的内容,而管理登录后可以看到并对选项卡2的内容进行操作,这样如何来做,先行谢过啦~~

    2016-07-26 09:36

  • 喷胶有什么典型应用 ?

    喷胶是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶,最大涂胶尺寸达8寸,得到厚度均匀的光刻胶层,同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶;通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和

    2020-03-23 09:00

  • 太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

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    2017-11-25 14:30

  • 分型一下程序是怎么操作单片

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    2022-01-19 06:09

  • FlexGUI“使用此配置并且不再询问”不起作用是怎么回事?

    我正在使用 FlexGUI 对我的 PMIC 进行编程。我正在将其设置为在生产中使用。我想利用启动器底部出现的“使用此配置并且不再询问”。这将为操作员消除额外的点击。但是,它似乎不起作用。我错过了什么?

    2023-03-23 08:43

  • 光刻胶有什么分类?生产流程是什么?

    光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的

    2019-11-07 09:00

  • 求助论坛的半导体工艺大神们,一个电子系研究生求助

    本人某985电子学院研一学生,我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做,前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了,让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会,就直接答应了

    2018-02-27 15:47

  • labview求助

    我才学labview,最近要解决一些问题,很着急,是老师布置的任务。要把测试数据输入excel,比如第一列是产品号码,第二列是操作员姓名。第三列是数据。怎么样把它们放进去呢?我一连接就提示数据不匹配

    2012-04-16 20:54