光刻机原理怎么做芯片 光刻是集成电路中最重要的工艺，光刻机是制造芯片的核心装备，在芯片的制作中，几乎每个工艺的实施，都需要用到光
2021-08-07 14:54
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
那么渐变色是怎么做出来的呢？PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
2018-08-17 16:09
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外
2022-07-10 14:53
是两个最基础的操作（横滑、上滑），在这两个基础操作上略做停顿，我们就可以进入应用间的快切和多任务管理，我们用一种非常轻的设计把它附着在两个基础交互上。彻底干掉虚拟键这件事最早我们没有太大的勇气去做，最后做出来反倒更贴近用户操作手机的直觉，有一种柳暗花明的感觉。
2018-07-05 14:29
光刻机，是现代光学工业之花，是半导体行业中的核心技术。 可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位，光刻机，是制造芯片的机器，要是没有了光刻机，我们就没有
2021-07-07 14:31
光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机，有用于LED制造领域的光刻机，还有用于封装的光刻机。光刻机是采用
2022-02-05 16:03
euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机，是大规模集成电路生产的核心设备，对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机
2022-07-10 15:28
功率IC是通过半导体工艺制造出来的电子器件，具有集成度高、功率密度高、体积小等特点。功率IC的制造过程主要分为以下几个步骤： 晶圆制备：用高纯度硅作为原料，经过多次化学反应、晶体生长、磨削和抛光等
2023-02-18 15:43
采用Czochralski法（CZ法）或区域熔炼法（FZ法） 晶圆的切割、抛光和清洗 2. 光刻技术 光刻是制造微型晶体管的关键步骤之一，它涉及到使用光敏材料（光刻胶）和光源（如紫外光）来转移图案到硅晶圆上。
2024-10-15 14:48
