本文以光刻机为中心，主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺
2017-12-19 13:33
在半导体芯片制造设备中，投资最大、也是最为关键的是光刻机，光刻机同时也是精度与难度最高、技术最为密集、进步最快的一种系统性工程设备。光学光刻技术与其它光刻技术相比，具有
2018-04-10 11:26
在曝光过程中，掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1，分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离，随着曝光次数的增加，会引起掩模版和光
2024-03-08 10:42
光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式
2024-03-21 11:31
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
本文介绍了光刻机在芯片制造中的角色和地位，并介绍了光刻机的工作原理和分类。 光刻机：芯片制造的关键角色
2024-11-24 09:16
NXCAD——数字化工作流程解决方案(CAD工作流程)使用西门子领先的产品设计软件NXCAD加速执行基于工作流程的解决方案。我们在了解行业需求方面累积了多年的经验，并据此针对各个行业的具体需求提供
2025-02-06 18:15 深圳市和粒科技有限公司 企业号
工作流程图是清晰地展示工作中各个环节的流程图图示，主要用于工作活动和效率的管理。工作流程图这种图示方法具有直观描述性、简
2020-07-28 14:22
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外
2022-07-10 14:53
光刻机的原理是接近或接触光刻，通过无限接近，将图案复制到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上，通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理。投影
2022-07-10 15:28
