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  • 光刻机工艺的原理及设备

    实际过程肯定没这么简单,上图是ASML典型的沉浸式步进扫描光刻机为例来看下光刻机是怎么工作的——首先是激光器发光,经过矫正、能量控制器、光束成型装置等之后进入光掩膜台,上面放的就设计公司做好的光掩膜

    2020-07-07 14:22

  • 光刻机结构组成及工作原理

    本文以光刻机为中心,主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺

    2017-12-19 13:33

  • 光刻机是干什么用的

      芯片制造流程其实是多道工序将各种特性的材料打磨成形,经循环往复百次后,在晶圆上“刻”出各种电子特性的区域,最后形成数十亿个晶体管并被组合成电子元件。那光刻,整个流程中的一个重要步骤,其实并没有

    2020-09-02 17:38

  • 一文看懂asml光刻机工作原理及基本构造

    在半导体芯片制造设备中,投资最大、也是最为关键的是光刻机光刻机同时也是精度与难度最高、技术最为密集、进步最快的一种系统性工程设备。光学光刻技术与其它光刻技术相比,具有

    2018-04-10 11:26

  • 浅谈不同阶段光刻机工作方式

    在曝光过程中,掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1,分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离,随着曝光次数的增加,会引起掩模版和

    2024-03-08 10:42

  • 光刻机的发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式

    2024-03-21 11:31

  • 光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻

    2025-01-16 09:29

  • 光刻机工作原理和分类

      本文介绍了光刻机在芯片制造中的角色和地位,并介绍了光刻机工作原理和分类。         光刻机:芯片制造的关键角色    

    2024-11-24 09:16

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    NXCAD——数字化工作流程解决方案(CAD工作流程)使用西门子领先的产品设计软件NXCAD加速执行基于工作流程的解决方案。我们在了解行业需求方面累积了多年的经验,并据此针对各个行业的具体需求提供

    2025-02-06 18:15 深圳市和粒科技有限公司 企业号

  • 光刻掩膜版测温仪,光刻机曝光光学系统测温仪

    型号:GK-1000 品牌:

    光刻胶(光敏胶)进行光刻,将图形信息转移到基片上,从而实现微细结构的制造。光刻机工作原理是利用光学系统将光线聚焦到光刻

    2023-07-07 11:46 安徽鼎诺仪器科技有限公司 企业号