在半导体芯片制造设备中，投资最大、也是最为关键的是光刻机，光刻机同时也是精度与难度最高、技术最为密集、进步最快的一种系统性工程设备。光学光刻技术与其它光刻技术相比，具有
2018-04-10 11:26
本文以光刻机为中心，主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺流程及
2017-12-19 13:33
在曝光过程中，掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1，分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离，随着曝光次数的增加，会引起掩模版和光
2024-03-08 10:42
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
本文介绍了光刻机在芯片制造中的角色和地位，并介绍了光刻机的工作原理和分类。 光刻机：芯片制造的关键角色
2024-11-24 09:16
干货：开关电源的工作条件和工作特点
2020-06-18 09:53
的)深圳磐石三轴荷重试验机工作条件：1、运行环境要求：室温条件;2、本机放置注意地面或桌面之平坦，安装时请使用水平仪调整机器水平;3、定期拆开防护罩，将直线导轨和滚珠丝
2022-07-22 16:48 深圳市磐石测控仪器有限公司 企业号
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外
2022-07-10 14:53
晶体管作为一种关键的半导体器件，其工作条件对于确保电路的正常运行和性能发挥至关重要。晶体管的工作条件涉及多个方面，包括电压、电流、温度以及湿度等。
2024-09-23 18:14
空气开关是一种用于在高压电路中切断和接通电流的电器元件。其工作条件对于空气开关的安全运行和长寿命有着至关重要的影响。
2023-04-08 15:18
