在半导体芯片制造设备中，投资最大、也是最为关键的是光刻机，光刻机同时也是精度与难度最高、技术最为密集、进步最快的一种系统性工程设备。光学光刻技术与其它光刻技术相比，具有
2018-04-10 11:26
本文以光刻机为中心，主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺流程及
2017-12-19 13:33
干货：开关电源的工作条件和工作特点
2020-06-18 09:53
本文首先阐述了塑壳断路器的概念，其次阐述了塑壳断路器的工作条件，最后介绍了塑壳断路器工作原理。
2019-12-18 14:45
参考工作条件简称参考条件，是指“为测量仪器或测量系统的性能评价或测量结果的相互比较而规定的工作条件”。
2019-11-10 07:52
光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。
2020-10-16 10:33
本文主要整理了“绝对最大值”和“推荐工作条件”两个运放参数，因为这是在《运算放大器权威指南》参数讲解中最前面的两个参数，实际工作中接触的最多。
2023-11-20 17:31
作为光刻工艺中最重要设备之一，光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。
2020-08-28 14:39
开关柜工作条件和要求 1）工作电流不超过铭牌上的额定电流值。 2）操作电压不应超过额定电压的±5％。 3）在下列情况下允许手动分闸： （1）危及人身安全及设备严重事故（开关拒动时）。 （2）正常操作
2023-09-26 16:16
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
2020-10-09 11:29
