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  • 光刻机结构组成及工作原理

    本文以光刻机为中心,主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺流程及

    2017-12-19 13:33

  • 一文看懂asml光刻机工作原理及基本构造

    在半导体芯片制造设备中,投资最大、也是最为关键的是光刻机光刻机同时也是精度与难度最高、技术最为密集、进步最快的一种系统性工程设备。光学光刻技术与其它光刻技术相比,具有

    2018-04-10 11:26

  • 光刻机价格多少_还有比光刻机更贵的设备吗

    光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备, 技术含量、价值含量极高。 光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术,是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备,因此也具备极高的单

    2018-04-10 10:19

  • 一文详解光刻机工作原理

    光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。

    2020-10-16 10:33

  • 防静电工作台的防静电原理及作用介绍

    防静电工作台顾名思义就是具有防静电功能的工作台。人们在干燥的环境中作业时,干燥的空气与绝缘体表面磨擦会产生静电。这些电荷会聚集在绝缘体的表面。电荷越积越多,电压也越来越高,达到一定的电压时,就会发生放电现象。

    2019-05-20 14:34

  • 光刻机制造难度有多大?

    据cnBeta、环球网、快科技等多家媒体证实,近日长江存储从荷兰阿斯麦(ASML)公司订购的一光刻机已抵达武汉。这台光刻机价值高达7200万美元,约合人民币4.6亿元。

    2018-11-22 15:32

  • 提高光刻机性能的关键技术及光刻机的发展情况

    作为光刻工艺中最重要设备之一,光刻机一次次革命性的突破,使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。

    2020-08-28 14:39

  • ASML光刻机工作原理及关键技术解析

    光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

    2020-10-09 11:29

  • 光刻机为何在我国是个难题

     光刻机是芯片制造最为重要的设备之一。目前,ASML垄断了全世界的高端光刻机。中国一直以来都想掌握光刻机技术,但是上海微电子经过17年的努力,才造出90nm的光刻机,这

    2020-01-29 11:07

  • 充电枪拔不下来的简单应急维修

    使用充电枪,车主首先会考虑安全性。安全问题也是影响电动汽车发展至关重要的因素,极有可能制约中国电动汽车产业的良性发展。据悉,国家能源局日前已经下发《关于开展电动汽车充电基础设施安全专项检查的通知》,在全国范围内组织开展电动汽车充电基础设施安全专项检查。

    2018-03-02 11:40