计算机图形软件设计微通道，并将设计图形转换为图形文件。这些设计图形随后被用于指导掩膜版的制作。 在制版阶段，设计好的图形通过直写光刻设备（如激光直写光刻机或电
2024-08-08 14:56
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到
2020-10-09 11:29
光刻掩膜简介 光刻掩膜（Photomask）又称光罩、光
2025-01-02 13:46
是作为设计图形的载体，通过光刻过程将掩膜版上的设计图形转移到光刻胶上，再经过刻蚀，将图形刻到衬底上，从而实现图形到硅片的
2024-09-06 14:09
本文介绍了光刻机在芯片制造中的角色和地位，并介绍了光刻机的工作原理和分类。 光刻机：芯片制造的关键角色
2024-11-24 09:16
光刻掩膜（也称为光罩）和模具在微纳加工技术中都起着重要的作用，但它们的功能和应用有所不同。 光刻掩
2024-10-14 14:42
本文以光刻机为中心，主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺流程及
2017-12-19 13:33
光刻掩膜版的制作是一个复杂且精密的过程，涉及到多个步骤和技术。以下是小编整理的光刻掩
2024-09-14 13:26
光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机，有用于LED制造领域的光刻机，还有用于封装的光刻机。光刻机是采用
2022-02-05 16:03
