实际过程肯定没这么简单，上图是ASML典型的沉浸式步进扫描光刻机为例来看下光刻机是怎么工作的——首先是激光器发光，经过矫正、能量控制器、光束成型装置等之后进入光掩
2020-07-07 14:22
计算机图形软件设计微通道，并将设计图形转换为图形文件。这些设计图形随后被用于指导掩膜版的制作。 在制版阶段，设计好的图形通过直写光刻设备（如激光直写光刻机或电
2024-08-08 14:56
光刻机掩膜台微动台调平控制系统设计_何良辰
2017-01-28 21:37
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到
2020-10-09 11:29
光刻掩膜简介 光刻掩膜（Photomask）又称光罩、光
2025-01-02 13:46
是作为设计图形的载体，通过光刻过程将掩膜版上的设计图形转移到光刻胶上，再经过刻蚀，将图形刻到衬底上，从而实现图形到硅片的
2024-09-06 14:09
是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时
2012-01-12 10:56
本文介绍了光刻机在芯片制造中的角色和地位，并介绍了光刻机的工作原理和分类。 光刻机：芯片制造的关键角色
2024-11-24 09:16
