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  • 光刻机的难度在哪里

    中国是目前世界上消费芯片最多的国家,每年的芯片进口额已超过了石油的进口额。虽然中国芯片行业也已经取得了小有成就,但在世界上还是处于落后的水平,芯片的落后少不了因为光刻机的原因,那么光刻机的难度究竟在在哪里呢?

    2022-01-03 17:16

  • 光刻机结构组成及工作原理

    本文以光刻机为中心,主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺流程及

    2017-12-19 13:33

  • 光刻机工作原理和分类

      本文介绍了光刻机在芯片制造中的角色和地位,并介绍了光刻机工作原理和分类。         光刻机:芯片制造的关键角色    

    2024-11-24 09:16

  • 一文看懂asml光刻机工作原理及基本构造

    在半导体芯片制造设备中,投资最大、也是最为关键的是光刻机光刻机同时也是精度与难度最高、技术最为密集、进步最快的一种系统性工程设备。光学光刻技术与其它光刻技术相比,具有

    2018-04-10 11:26

  • euv光刻机在哪里

     在半导体制造过程中,光刻机是最核心的设备,同时,也是研发难度最高的设备。

    2022-07-07 09:38

  • 光刻机工作原理以及关键技术

    导读:光刻是集成电路最重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用。光刻是制造芯片的最关键技术,在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。 光刻机

    2022-12-23 13:34

  • 光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻

    2025-01-16 09:29

  • 浅谈不同阶段光刻机工作方式

    在曝光过程中,掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1,分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离,随着曝光次数的增加,会引起掩模版和

    2024-03-08 10:42

  • 一文详解光刻机工作原理

    光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。

    2020-10-16 10:33

  • 光刻机结构及IC制造工艺工作原理

    光刻机是微电子制造的关键设备,广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中,光刻机被用于制造芯片上的电路图案。

    2024-01-29 09:37