• 发文章

  • 发资料

  • 发帖

  • 提问

  • 发视频

创作活动
0
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
返回

电子发烧友 电子发烧友

  • 全文搜索
    • 全文搜索
    • 标题搜索
  • 全部时间
    • 全部时间
    • 1小时内
    • 1天内
    • 1周内
    • 1个月内
  • 默认排序
    • 默认排序
    • 按时间排序
大家还在搜
  • 光刻机结构组成及工作原理

    本文以光刻机为中心,主要介绍光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、

    2017-12-19 13:33

  • 光刻机工作原理和分类

      本文介绍光刻机在芯片制造中的角色和地位,并介绍光刻机工作原理和分类。        

    2024-11-24 09:16

  • 一文看懂asml光刻机工作原理及基本构造

    在半导体芯片制造设备中,投资最大、也是最为关键的是光刻机光刻机同时也是精度与难度最高、技术最为密集、进步最快的一种系统性工程设备。光学光刻技术与其它光刻技术相比,具有

    2018-04-10 11:26

  • 光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。

    2025-01-16 09:29

  • 光刻机工作原理以及关键技术

    导读:光刻是集成电路最重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用。光刻是制造芯片的最关键技术,在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。 光刻机

    2022-12-23 13:34

  • 光刻机原理介绍

    光刻机,是现代光学工业之花,是半导体行业中的核心技术。        可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位,光刻机,是制造芯片的机器,要是没有了光刻机,我们就没有

    2021-07-07 14:31

  • 组成光刻机的各个分系统介绍

      本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤,其重要性不言而喻。光刻机是实现这一工艺的核心设备,它的

    2025-01-07 10:02

  • 浅谈不同阶段光刻机工作方式

    在曝光过程中,掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1,分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离,随着曝光次数的增加,会引起掩模版和

    2024-03-08 10:42

  • 一文详解光刻机工作原理

    光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。

    2020-10-16 10:33

  • 一文详解光刻机工作原理

      是的!光刻机本身的原理,其实和相机非常相似,同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相。机。相机的原理,是被摄物体被光线照射所反射的光线,透过相机的镜头,将影像投射并聚焦在相机的底片(感光元件)上, 如此便可把被摄物体的影像复制到底片上。

    2022-11-21 10:03