` 谁来阐述一下无人机应用技术专业属于什么大类？`
2019-08-28 16:48
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
北京卫星制造厂隶属于中国空间技术研究院(航天五院),是从事卫星等航天器研制的大型国有企业,现位于北京航天城。现由于业务需要,急需从事厚膜混合电路及元器件封装的工艺、生产专业技术人员、操作人员和检验人员若干要求有两年以
2013-11-23 07:43
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2016-05-28 12:10
北京卫星制造厂隶属于中国空间技术研究院(航天五院),是从事卫星等航天器研制的大型国有企业,现位于北京航天城。现由于业务需要,急需从事厚膜混合电路及元器件封装的工艺、生产专业技术人员、操作人员和检验人员若干要求有两年以
2013-11-23 07:46
芯片是怎么产生技术
2019-05-09 02:46
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
受人之托，忠人之事，只想尽力做好！请教各位专业技术工程帮忙设计参考一下，做个实效的电路图；农村庄稼严重受害告急！野猪惹的祸！网络上的野猪机骗人的不少，所以。。。。。。1、 输入直流12V、输出
2013-04-15 08:58
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
