28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是
2019-07-01 07:22
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻
2019-11-07 09:00
分享一种通用家电遥控设备的设计方案
2021-06-04 06:54
闪存设备管理技术的现状及存在的问题是什么？闪存设备I/O软件的分层结构是怎样的？怎样去设计一种闪存设备IO软件？
2021-04-26 07:04
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
求一种基于STM8系列单片机的无线通信系统的设计与实现方案
2021-12-17 06:23
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过
2020-03-23 09:00
怎样通过BC5和MCF5251去设计一种车载信息娱乐设备？
2021-05-19 06:57
（一种用于 esp，一种用于其他设备）。每次我向其他设备发送消息（esp 的 CS 设置为高电平）时，下一次与 esp
2023-05-31 07:15
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好
2018-02-27 15:47
