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  • 193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

    翁寿松(无锡市罗特电子有限公司,江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU:(1)美国俄勒冈州Fab PID厂,2007年下半年量产;(2)美国亚利桑那州Fab 32厂,投资30亿美元,2007年末量产;(3)以色列Fab 28厂,投资35亿美元,2008年上半年量产;(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂,投资10~15亿美元,从90 nm过渡至45 nm,它是英特尔产首座300 mm晶圆厂,也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上,英特尔将于2009年推出32nmMPU,2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存,3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。

    2019-07-01 07:22

  • 太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

    太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

    2017-11-25 14:30

  • 光刻胶有什么分类?生产流程是什么?

    光刻胶也称为光致抗蚀剂,是种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻

    2019-11-07 09:00

  • 求助论坛的半导体工艺大神们,个电子系研究生求助

    本人某985电子学院研学生,我们导师在我刚来的时候就把个课题给我去做,前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了,让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是个很好

    2018-02-27 15:47

  • 关于直流稳压稳流方案,高手请进

    本帖最后由 54peter 于 2015-1-1 11:20 编辑 个额定300W的PC ATX电源,直接用 2.5平米的铜电线接出三条主线,如图所示,再接10个负载,负载功率

    2015-01-01 11:15

  • 求设计

    要保持室内(密闭空间50平米)常年恒温28-33度之间,空气适度67%~75%。土壤湿度10%~20%,要求多点检测,温湿度超过阀值,给我报警,报警方式最好为邮件、短信等网络方式,有没有这样的设计和实物,直接购买使用最好。

    2014-05-28 23:13

  • 喷胶有什么典型应用 ?

    喷胶是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶,最大涂胶尺寸达8寸,得到厚度均匀的光刻胶层,同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶;通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。

    2020-03-23 09:00

  • “合肥造”植保无人机即将亮相

    有让您回味无穷的老电影物件、连环画绘本,也有“星光熠熠”的高科技产品。在每年的文博会上,作为“科技之城”的合肥,都少不了新奇特的高科技。日前,记者走访了相关展商发现,今年文博会上,您将看到“合肥造”的无人机秀绝活,还能遇见会“听话”的鼠标,还能在200平米展厅体验3D动漫。

    2020-08-18 06:51

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    2011-05-15 00:49

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    光刻掩膜设计与加工制造服务,请问可以加工二元光学器件吗?相位型光栅那种.

    2024-04-22 06:24