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  • 光刻胶有什么分类?生产流程是什么?

    光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的

    2019-11-07 09:00

  • 193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

    翁寿松(无锡市罗特电子有限公司,江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU:(1)美国俄勒冈州Fab PID厂,2007年下半年量产;(2)美国亚利桑那州Fab 32厂,投资30亿美元,2007年末量产;(3)以色列Fab 28厂,投资35亿美元,2008年上半年量产;(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂,投资10~15亿美元,从90 nm过渡至45 nm,它是英特尔产首座300 mm晶圆厂,也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上,英特尔将于2009年推出32nmMPU,2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存,3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。

    2019-07-01 07:22

  • 求助论坛的半导体工艺大神们,一个电子系研究生求助

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    2018-02-27 15:47

  • 太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

    太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

    2017-11-25 14:30

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    最近在了解OMAP,虽然翻前倒后的,基本上都找到了OMAP芯片,事后我想说,TI关于OMAP的分类很糟糕,不知道是我理解的问题还是TI分类管理的问题。先上个图:        这是我截的图,这个

    2018-06-21 18:50

  • 求大神简单描述什么是“严格”类属

    玩了好久labview,这个问题一直没弄懂。有时候在右键创建时,会显示“严格”类属性。如下图请问这个“严格”是指什么?可否取消掉?

    2017-03-03 22:09

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    如题,我现在有一个类的数组,这个类数组中的类属于3层继承关系中的某一层,我希望筛选出数组中在二、三层的类,应该怎么做判断?

    2021-11-15 17:22

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    2021-11-02 09:48

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    2019-08-08 08:10

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    I/O设备的分类1.按传输速率分类低速设备:指传输速率为每秒钟几个字节到数百个字节的设备。典型的设备有键盘、鼠标、语音的输入等;

    2019-09-18 09:02