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  • 光刻胶光刻机的关系

    光刻胶光刻机研发的重要材料,换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕迹,就需要网硅片上涂一层光刻胶

    2022-02-05 16:11

  • 光刻胶光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。

    2024-03-04 17:19

  • 光刻胶黏度如何测量?光刻胶需要稀释吗?

    光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体,不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要?黏度用什么表征?哪些

    2023-11-13 18:14

  • 上海新阳表示ARF193nm光刻胶配套的光刻机预计12月底到货

    近日,上海新阳在投资者互动平台上表示,公司用于KRF248nm光刻胶配套的光刻机已完成厂内安装开始调试,ARF193nm光刻胶配套的光刻机预计12月底到货。

    2019-12-04 15:24

  • 光刻胶的原理和正负光刻胶的主要组分是什么

    光刻胶的组成:树脂(resin/polymer),光刻胶中不同材料的粘合剂,给与光刻胶的机械与化学性质(如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等);感光剂,感光剂对光能发生光化学反应;溶剂(Solvent

    2022-10-21 16:40

  • 光刻胶的类型及特性

    光刻胶类型及特性光刻胶(Photoresist),又称光致抗蚀剂,是芯片制造中光刻工艺的核心材料。其性能直接影响芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介绍了光刻胶类型和

    2025-04-29 13:59

  • 南大光电将建成光刻胶生产线,明年或光刻机进场

    今年7月17日,南大光电在互动平台透露,公司设立光刻胶事业部,并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”,全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”落地实施。目前该项目完成的研发技术正在等待验收中,预计2019年底建成一条

    2019-12-16 13:58

  • 关于光刻胶的关键参数介绍

    与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的

    2024-03-20 11:36

  • 光刻胶板块的大涨吸引了产业注意 ,国产光刻胶再遇发展良机?

    5月27日,半导体光刻胶概念股开盘即走强,截至收盘,A股光刻胶板块涨幅达6.48%。其中晶瑞股份、广信材料直线拉升大涨20%封涨停,容大感光大涨13.28%,扬帆新材大涨11.37%,南大光电

    2021-05-28 10:34

  • 光刻胶的保存和老化失效

    我们在使用光刻胶的时候往往关注的重点是光刻胶的性能,但是有时候我们会忽略光刻胶的保存和寿命问题,其实这个问题应该在我们购买光刻胶前就应该提出并规划好。并且,在

    2024-07-08 14:57