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  • 光刻工艺步骤

    一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型:正性光刻和负性光刻区别如下

    2021-01-12 10:17

  • 魂迁光刻,梦绕芯片,中芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享

    据羊城晚报报道,近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机,顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区,中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机,主要用于企业复工复产后的生产线扩容。我们知道

    2021-07-29 09:36

  • 光刻机

    和荷兰学习交流,学他的技术,当然要付出代价,比如财富和他想要的东西,真诚相待,会成功的,还可以引进的的人才和技术,在和他学艺,联姻,总之就是把技术学到手。

    2022-11-20 08:48

  • 光刻为什么光刻完事 剥离那么容易脱落呢?怎么避免呢?

    有人知道 为什么光刻完事 剥离那么容易脱落呢 怎么避免呢

    2012-06-26 12:40

  • 半导体光刻蚀工艺

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    2021-02-05 09:41

  • 国科大《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程分享之二:浸没式光刻工艺缺陷种类、特征及自识别方法

    的韦亚一研究员及其团队具有多年的学术界及工业界的光刻技术经验积累,并出版多本专著,其中《计算光刻与版图优化》一书更是列入中国科学院大学研究生教学辅导书系列。本号获授权将陆续介绍《集成电路先进

    2021-10-14 09:58

  • 一文带你了解芯片制造的6个关键步骤

    光刻”将算法模型与光刻机、测试晶圆的数据相结合,从而生成一个和最终曝光图案完全不同的掩模版设计,但这正是我们想要达到的,因为只有这样才能得到所需要的曝光图案。 刻蚀下一步是去除退化的光刻胶,以显示出预期

    2022-04-08 15:12

  • 半导体光刻技术基本原理

    ,小米9pro,oppo Reno3以及vivo X30)分别采用了什么芯片? 3协同通信的方式哪些? 4大数据及认知无线电(名词解释) 4半导体工艺的4个主要步骤: 4简叙半导体光刻技术基本原理 4给出4个全球著名的半导体设备制造商并指出其生产的设备核心技术:

    2021-07-26 08:31

  • 单片和FPGA什么区别

    因为最近在做电子技术课程设计,老师说,现在做课程设计不能用单片,只能用模数电知识,可以用FPGA我开始疑惑,单片和FPGA什么区别,看了一片文章觉得讲的很详细。和

    2021-07-16 07:52

  • 芯片制作工艺流程 二

    涂敷光刻胶 光刻制造过程中,往往需采用20-30道光刻工序,现在技术主要采紫外线(包括远紫外线)为光源的光刻技术。

    2019-08-16 11:11