hi：请问ccs6以上的版本都取消了软件仿真吗？我在官网中下了最新的CCS6.0.1.00040_win32版本，安装完后，建立target file中，没有了ti simalutor那一项，是新版本取消了对软件仿真的支持吗？
2018-05-25 07:08
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
今天刚升了16，发现这个选项找不到了，没办法把已经敷好的铜取消了，百度和Google了半天也没找到怎么调出那个选项来，就是图片里左下角的Is Poured，勾选以后添加敷铜，去掉勾就可以取消掉敷铜希望大家不吝赐教，谢谢！
2017-10-11 19:54
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
各位大侠，小弟在一个论坛中下载的PPT中学习是 寻找一个叫做 Write Characters to File的VI可是好像说这个VI在8.6中被取消了请问有没有可以替代的VI本来这个VI是用来于
2013-01-21 20:58
github 上查看了较新版本的 SDK，但这些都没有我希望使用的开发板的驱动程序示例。1. 我在哪里可以找到上面链接的文档中所述可能缺失的 LPSPI 驱动程序示例？2. 这种支持被取消了吗？
2023-03-16 07:19
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
今天下载安装了multisim 14，发现改变了不少，但是找不到 测量探针 ，只有电流探针。翻遍菜单也没找到，难道14版本取消了测量探针？还是在别的什么地方？我觉得这个功能挺好用啊，如果没有这个功能，都想用回13版本了。
2015-10-21 20:31
请问步进电机的控制中，由于取消了速度环，那么在PI调中的参考数据Isqref,Isdref是用一个固定值，还是要随着角度变化而变化
2016-01-05 15:47
