光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理
2024-03-21 11:31
历数全球，也只有荷兰一家叫做阿斯麦（ASML）的公司集全球高端制造业之大成，一年时间造的出二十台高端设备，台积电与三星每年为此抢破了头，中芯国际足足等了三年，也没能将中国的首台EUV光刻机迎娶进门。
2020-09-04 10:28
随着信息社会的迅速发展，手机、电脑、电视等各种电子设备越来越“迷你”，从之前的“大哥大”到现在仅仅几个硬币厚的时尚手机，从老式的矮胖电视到如今轻薄的液晶电视，都不离开集成电路的发展，也就是我们平时所说的“芯片”。自从1958年世界上第一块集成电路问世以来，它的体积
2019-08-01 16:30
作为光刻工艺中最重要设备之一，光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代
2020-08-28 14:39
中国目前的光刻机技术还在起步探索阶段，虽然取得了一些小成就，但离国外先进技术差距还很大，希望通过目前科研人员的努力，能真正用上性能强，稳定性高的高端国产芯片。
2018-06-16 14:51
ASML脱胎于飞利浦光刻设备研发小组。飞利浦从1971年开始，在此前开发的透镜式显影装备基础上，开发透镜式非接触光刻设备。
2018-05-30 17:12
近日，北京证监局披露了华卓精科的第三期辅导工作报告，公司拟登陆科创板。据公司官网显示，其生产的光刻机双工件台，打破了ASML公司在工件台上的技术垄断，成为世界上第二家掌握双工件台核心技术的公司。 华
2019-11-20 18:52
荷兰作为光刻的生产大国，很多人纷纷都在问为什么荷兰能生产二中国不行.本文主要分析了中国光刻机的发展分析以及与荷兰之间的差距，详细的说明了荷兰光刻机为什么厉害，为何
2017-12-19 14:56
，光刻机作为IC制造装备中最核心、技术难度最大的设备，其重要性日益凸显。本文将从光刻机的发展历程、结构组成、关键性能参数以及双工件台技术展开介绍。 一、光刻机
2024-11-22 09:09
芯片是半导体中的积分器，目前芯片的利用率很高，要想在技术领域有所突破，就必须在芯片领域发展。在芯片制造中，最受关注的是光刻机的发展。到目前为止，我国光刻机制造领域还比较
2020-08-02 10:32
