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  • 光刻机发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理

    2024-03-21 11:31

  • 一文看懂光刻机的结构及双工件台技术

    光刻机作为IC制造装备中最核心、技术难度最大的设备,其重要性日益凸显。本文将从光刻机发展历程、结构组成、关键性能参数以及双工件台技术展开介绍。 一、

    2024-11-22 09:09

  • 一文了解光刻机成像系统及光学镀膜技术

    精密机械方面涉及到纳米精度的位移控制技术等,这些技术发展中涉及的加工和检测设备也都是各时代最尖端的设备,因此高精度光刻机也被称为“人类历史上最精密”的机器之一。   光刻机发展

    2024-11-21 13:43

  • 光刻机工艺的原理及设备

      关于光刻工艺的原理,大家可以想象一下胶片照片的冲洗,掩膜版就相当于胶片,而光刻机就是冲洗台,它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上,然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。    当然

    2020-07-07 14:22

  • 光刻机是干什么用的

    光刻机本身的原理,其实和相机非常相似,同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理,是被摄物体被光线照射所反射的光线,透过相机的镜头,将影像投射并聚焦在相机的底片(感光元件)上,如此便可

    2020-09-02 17:38

  • duv光刻机和euv光刻机区别是什么

    目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术,EUV使用的是深紫外

    2022-07-10 14:53

  • 光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻

    2025-01-16 09:29

  • 提高光刻机性能的关键技术及光刻机发展情况

    作为光刻工艺中最重要设备之一,光刻机一次次革命性的突破,使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代

    2020-08-28 14:39

  • 光刻机原理介绍

    光刻机,是现代光学工业之花,是半导体行业中的核心技术。        可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位,光刻机,是制造芯片的机器,要是没有了光刻机,我们就没有

    2021-07-07 14:31

  • 光刻机干啥用的

    光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机,有用于LED制造领域的光刻机,还有用于封装的光刻机光刻机是采用

    2022-02-05 16:03