光刻机的原理是接近或接触光刻，通过无限接近，将图案复制到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上，通过移动工作台或透镜扫描实现
2022-07-10 15:28
的飞机在任意时刻的飞行位置偏差不超过一个微米。如此极端的性能指标，使光刻机双工件台成为当之无愧的“精密机械之王”，其制造也成为世界级难题。 华卓精科肩负
2018-10-14 11:15
本文以光刻机为中心，主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺流程及
2017-12-19 13:33
是哪个国家的呢？ euv光刻机许多国家都有，理论上来说，芯片强国的光刻机也应该很强，但是最强的光刻机制造强国，不是美国、韩国等芯片强国，而是荷兰。 EUV光刻机有光源系
2022-07-10 11:42
近日，福建安芯半导体科技有限公司时隔1个月，再次出货一台价值近千万元的光刻机，现已交付国内某研究所用于cmos领域研究。
2020-04-15 10:47
可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻机生产。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前，最先进的光刻机
2022-07-10 14:35
芯片制造的国产化任重道远，比如在EDA工具的国产化、光刻机等，国产化都还有很长的路要走。有统计数据显示，目前阶段我国在清洗、热处理、去胶设备的
2023-08-09 11:50
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
，光刻机作为IC制造装备中最核心、技术难度最大的设备，其重要性日益凸显。本文将从光刻机的发展历程、结构组成、关键性能参数以及双工件台技术展开介绍。 一、
2024-11-22 09:09
