电子发烧友

翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。

2019-07-01 07:22

招聘－电路设计开发电子类相关专业，会电路图和PCB板设计；会单片机的编程。精通电路知识， 会分析设计电路图。正在找工作或计划换工作的朋友，请与我联系，QQ　１３１６０８３６工作地在：河南新乡

2012-06-17 19:37

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2013-04-12 16:05

太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？

2017-11-25 14:30

的光刻机厂家就剩下ＡＳＭＬ。ASML是荷兰飞利浦公司的半导体部门拆分出来的独立公司（飞利浦半导体部门拆分出的另一家公司是ＮＸＰ恩智浦，最近美国高通公司要收购ＮＸＰ，需要得到中国***的批准，赶上美帝

2018-06-13 14:40

光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的

2019-11-07 09:00

招聘硬件工程师：1.电子、通讯专业本科学历；2.2年工作经验；3.熟悉数字，模拟电路原理图设计，PCB设计；4.熟悉51、ARM等微控制器。工作地点：南京私营企业，待遇优厚，薪资面谈有意者请发简历至以下邮箱Email: echo_xu@hopemicro.com

2015-07-30 17:35

招聘自动化、电气自动化、自动化控制工程师，挂证，不坐班，要求持有相关专业的中级职称证，用于我司资质申报工作上，凑资质人员申报资质，不存在风险。联系电话***，Q1580479594李经理

2015-10-24 18:06

组网，实现工业环网应用；5、告警日志及联动动作保存功能，方便事故原因追踪。请问应该招聘什么样的人员回来进行研发设计？应该要招聘什么专业的呢？是通信、是电子，还是其他什么专业

2017-06-05 23:16