光刻掩膜设计与加工制造服务，请问可以加工二元光学器件吗？相位型光栅那种.
2024-04-22 06:24
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
如何去设计一种激光加工系统？DSP和FPGA在激光加工系统中有哪些运用？激光加工系统有哪些优点？
2021-04-29 06:21
求刘凯老师STM32视频对应的PPT,是PPT不是视频！万分感谢。
2015-06-09 17:13
激光切割和雕刻以其精度高、视觉效果好等特性，被广泛运用于广告业和航模制造业。在大尺寸激光加工系统的开发过程中，加工速度与加工精度是首先要解决的问题。解决速度问题的一般方法是在电机每次运动前、后设
2019-06-26 06:49
激光切割和雕刻以其精度高、视觉效果好等特性，被广泛运用于广告业和航模制造业。在大尺寸激光加工系统的开发过程中，加工速度与加工精度是首先要解决的问题。解决速度问题的一般方法是在电机每次运动前、后设置加、减速区，但这会使
2019-10-17 06:11
本帖最后由 cy133 于 2015-2-20 14:20 编辑 求源享科技刘凯老师讲的stm32视频的PPT，注：是PPT，2057846603@qq.com
2015-02-19 22:36
激光切割和雕刻以其精度高、视觉效果好等特性，被广泛运用于广告业和航模制造业。在大尺寸激光加工系统的开发过程中，加工速度与加工精度是首先要解决的问题。解决速度问题的一般方法是在电机每次运动前、后设置加、减速区，但这会使
2019-10-15 07:01
如题，求与《FreeRTOS源码详解与应用开发——基于STM32》书本配套的ppt。 万分感谢！
2020-07-14 23:29
