半导体设备的种类繁多，包括光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备等，每种设备的尺寸、重量、重心位置以及振动敏感程度都有所不同。例如，光刻机通常对精度要求极高，其工作时的微小振动都
2024-12-30 15:32 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
与客户进行详细沟通，了解半导体设备的基本信息，包括设备类型（如光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备等）、设备尺寸（长、宽、高）、设备重量（包括满载和空载状态）、设备重心位置等。这些参数对于设计防震基座的承载能力和稳定性至关重
2024-12-26 16:48 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂
2018-04-10 09:49
半导体设备主要应用于集成电路的制造和封测环节，可细分为晶圆制造设备(前道设备）和封装、测试设备（后道设备)。其中，前道设备主要有光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备、离子注入机
2023-12-27 10:57
一、定制化的必要性1，适应不同设备需求（1)半导体设备的种类繁多，包括光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备等，每种设备的尺寸、重量、重心位置以及振动敏感程度都有所不同。例如，光刻机
2025-02-05 16:48 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
本文以光刻机为中心，主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺流程及工作原理。
2017-12-19 13:33
作为光刻工艺中最重要设备之一，光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。
2020-08-28 14:39
光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备， 技术含量、价值含量极高。 光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，因此也具备极高的单台价
2018-04-10 10:19
光刻机是芯片制造最为重要的设备之一。目前，ASML垄断了全世界的高端光刻机。中国一直以来都想掌握光刻机技术，但是上海微电子经过17年的努力，才造出90nm的光刻机，这
2020-01-29 11:07
光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。
2020-10-16 10:33
