光刻掩膜设计与加工制造服务，请问可以加工二元光学器件吗？相位型光栅那种.
2024-04-22 06:24
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
我想在我的 RT1050（或 RT1060）+ 88W8987（ublox jody-w2 或 murata Type1ZM）上加载制造固件并使用 Labtool。 ・我在哪里可以得到制造固件？ ・
2023-06-05 06:05
XX nm制造工艺是什么概念？为什么说7nm是物理极限？
2021-10-20 07:15
想用磁场传感器设计制作一个电流监测装置，有基本原理，要在哪里找技术支撑来实现样机制作？
2023-04-16 21:16
CC2564B的流控机制是在哪里设置的？我现在在用CC2564B的chip做产品的蓝牙，现在CC2564B通过5-wires UART与CPU通信。 但是当UART使用频繁的时候CPU会当机：我测量
2016-03-30 09:59
单面板的设计制造，单面板的主体是坚硬的绝缘材料，是环氧树脂玻璃纤维或者FR4，称之为基板，铜材料通过胶粘或者电沉积的方式贴在电路板的一面称为顶面。 光刻技术原理过程： 1、铜金属层包覆上一种叫做
2024-06-16 11:17
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
请问一下芯片制造究竟有多难？
2021-06-18 06:53
本人最近因为需要，想要自己开发cc2640蓝牙芯片，之前没接触过，想问下哪位盆友做过，难度大不大？难点是哪里？
2019-04-28 00:01
