关于光刻工艺的原理，大家可以想象一下胶片照片的冲洗，掩膜版就相当于胶片，而光刻机就是冲洗台，它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上，然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。 当然
2020-07-07 14:22
芯片制造流程其实是多道工序将各种特性的材料打磨成形，经循环往复百次后，在晶圆上“刻”出各种电子特性的区域，最后形成数十亿个晶体管并被组合成电子元件。那光刻，整个流程中的一个重要步骤，其实并没有
2020-09-02 17:38
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的
2021-07-29 09:36
从哪几方面去分析CAP消息？一方面描述如何根据协议标准中规定的协议消息结构进行解码另一方面结合实际情况探讨CAP消息的统计及呼叫数据记录合成等功能
2021-04-09 07:03
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造，结果会怎样？
2020-06-10 19:23
什么是反激式控制器开关电源芯片U6773S？为什么要设计一款反激式控制器开关电源芯片U6773S？反激式控制器开关电源芯片U6773S的优势主要体现在哪几方面？
2021-08-06 06:43
需要从哪几方面去分析电荷泵锁相环系统的相位噪声特性？ 才能得出系统噪声特性的分布特点以及与环路带宽的关系。
2021-04-07 07:11
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03
不同中心频率的已调无用信号和干扰信号，因此要求高频放大器应具有一定形状的频率选择特性。那么在针对产品设计中，对高频小信号放大器有哪几方面要求？
2019-09-09 09:14
的有氧化炉、沉积设备、光刻机、刻蚀设备、离子注入机、清洗机、化学研磨设备等。以上是今日Enroo关于晶圆制造工艺及半导体设备的相关分享。
2018-10-15 15:11
