EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的
2021-07-29 09:36
和荷兰学习交流，学他的技术，当然要付出代价，比如财富和他想要的东西，真诚相待，会成功的，还可以引进的的人才和技术，在和他学艺，联姻，总之就是把技术学到手。
2022-11-20 08:48
管理系统 和 牵引逆变器系统中的监测和维护，依然存在一些技术难点。以下便是最为常见的八大问题及TI的建议。1.如何增加能量密度和系统效率提高混合动力/电动汽车续航能力？将相同尺寸的功率输出加倍可大量节约
2022-11-07 06:55
说起开关电源的难点问题，pcb布板问题不算很大难点，但若是要布出一个精良pcb板一定是开关电源的难点之一（pcb设计不好，可能会导致无论怎么调试参数都调试布出来的情况，这么说并非危言耸听）原因是
2020-10-22 08:00
的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。在高端光刻机上，除了龙头老大ASML
2018-09-03 09:31
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17
前言：开关电源的设计过程中，主要有两大难点：磁性元件设计和控制环路设计。这篇博客主要讲解开关电源的控制环路设计，内容不是很全，主要以PPT的形式呈现给大家，希望对大家有所帮助。...
2021-10-28 08:55
哪些市场信息？ 晶圆代工厂不惜重金 在制造工艺演进到10nm之后，晶圆厂都在为摩尔定律的继续前进而做各种各样的努力，EUV则是被看作的第一个倚仗。而从EUV光刻机ASML的财务数据我们可以看到，其
2020-02-27 10:42
有人知道 为什么光刻完事 剥离那么容易脱落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40
芯片。然而即使如此，近期的芯片短缺依然表现出，这个数字还未达到上限。尽管芯片已经可以被如此大规模地生产出来，生产芯片却并非易事。制造芯片的过程十分复杂，今天我们将会介绍六个最为关键的步骤：沉积、光刻胶涂
2022-04-08 15:12
