翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座
2019-07-01 07:22
光刻掩膜设计与加工制造服务，请问可以加工二元光学器件吗？相位型光栅那种.
2024-04-22 06:24
XX nm制造工艺是什么概念？为什么说7nm是物理极限？
2021-10-20 07:15
单面板的设计制造，单面板的主体是坚硬的绝缘材料，是环氧树脂玻璃纤维或者FR4，称之为基板，铜材料通过胶粘或者电沉积的方式贴在电路板的一面称为顶面。 光刻技术原理过程： 1、铜金属层包覆上一种叫做
2024-06-16 11:17
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
请问一下芯片制造究竟有多难？
2021-06-18 06:53
，现在新出现的一些工具可以帮助工程师们迅速地让新的设计转入样机制造，并使其系统达到最佳性能。这些工具帮助开发人员使用可重配置现场可编程门阵列(FPGA)技术和面向应用型集成模拟前端(AFE)，并结合
2018-09-26 10:57
落后三年多（台积电和三星的14/16纳米制程工艺都是在2015年开始量产的），这实际上就是美国对中国大陆ＩＣ制造设备的禁运目标。ＩＣ制造设备种类非常多，价格都非常昂贵，其中最重要的是光刻机。
2018-06-13 14:40
芯片制造全工艺流程详情
2020-12-28 06:20
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
