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  • 芯片制造全过程

    有人说芯片是人类最高智慧的代表,很多人都无法理解,接下来跟随小编一起了解芯片的制作全过程,看完你就懂了。

    2021-12-08 17:42

  • 光刻机制造难度有多大?

    据cnBeta、环球网、快科技等多家媒体证实,近日长江存储从荷兰阿斯麦(ASML)公司订购的一台光刻机已抵达武汉。这台光刻机价值高达7200万美元,约合人民币4.6亿元。

    2018-11-22 15:32

  • 一文详解芯片制造全过程

    简单地说,处理器的制造过程可以大致分为沙子原料(石英)、硅锭、晶圆、光刻(平版印刷)、蚀刻、离子注入、金属沉积、金属层、互连、晶圆测试与切割、核心封装、等级测试、包装上市等诸多步骤,而且每一步里边又包含更多细致的

    2020-10-12 10:36

  • 提高光刻机性能的关键技术及光刻机的发展情况

    作为光刻工艺中最重要设备之一,光刻机一次次革命性的突破,使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代

    2020-08-28 14:39

  • 光刻机价格多少_还有比光刻机更贵的设备吗

    光刻机是芯片制造光刻环节的核心设备, 技术含量、价值含量极高。 光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术,是所有半导体

    2018-04-10 10:19

  • 光刻机结构组成及工作原理

    本文以光刻机为中心,主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺流程及工作原理。

    2017-12-19 13:33

  • 光刻机为何在我国是个难题

     光刻机是芯片制造最为重要的设备之一。目前,ASML垄断了全世界的高端光刻机。中国一直以来都想掌握光刻机技术,但是上海微电子经过17年的努力,才造出90nm的

    2020-01-29 11:07

  • 一文看懂asml光刻机工作原理及基本构造

    在半导体芯片制造设备中,投资最大、也是最为关键的是光刻机光刻机同时也是精度与难度最高、技术最为密集、进步最快的一种系统性工程设备。光学光刻技术与其它

    2018-04-10 11:26

  • ASML光刻机的工作原理及关键技术解析

    光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

    2020-10-09 11:29

  • ASML光刻机的工作原理,光刻机制造难度有多大?

    。 ***制造难度有多大? ***跟照相机差不多,它的底片,是涂满光敏胶的硅片。电路图案经***,缩微投射到底片,蚀刻掉一部分胶,露出硅面做化学处理。制造芯片,要重复几十遍这个过程。 位于

    2019-05-15 17:56