光刻机制作芯片过程非常复杂，而光刻机是制造芯片最重要的设备之一，由于先进光刻机的技术封锁，中国芯片厂商的芯片制作工艺目前比较落后，也没有优秀的国产
2021-12-30 11:23
引言 在 MICRO OLED 的制造进程中，金属阳极像素制作工艺举足轻重，其对晶圆总厚度偏差（TTV）厚度存在着复杂的影响机制。晶圆 TTV 厚度指标直接关乎 MICRO OLED 器件的性能
2025-05-29 09:43
CPU制作工艺 通常我们所说的CPU的“制作工艺”指得是在生产CPU过程中，要进行加工各种电路和电子元件，制造导
2009-12-24 10:20
Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。 光刻（Photolithography） 意思是用光来制作一个图形（
2020-08-28 14:39
光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03
）图形转移工艺、干膜（Dry Film）图形转移工艺、液态光致抗蚀剂（Liquid Photoresist）图形转移
2023-09-12 11:31
显示芯片制作工艺
2009-12-25 10:44
光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式
2024-03-21 11:31
光刻机是制作芯片的关键设备，利用光刻机发出的紫外光源通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的硅片曝光，使
2022-06-30 09:46
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外
2022-07-10 14:53
