翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
单片机的GND到底接到哪里？是接到电源的负极吗？VCC是接到正极吗？
2012-12-04 19:08
在RTTHREAD STUDIO中包含了math.h头文件在进行对数（log）运算是编译错误undefined reference to `log’通过查阅资料发现如果直接运算数据，如log(1)不会报错但如果以变量形式log（a）就会报上述错误那么问题到底出
2022-09-26 14:40
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
FT8132上位机在哪里下载
2022-02-23 18:23
不同编程语言的区别到底在哪里？C语言、python、ruby、java...撇开前端开发语言不谈，但论这些后端语言。他们到底有什么区别呢？
2020-06-02 06:44
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
fpga和单片机是用得最多的两款芯片，那么两者最大的不同点在哪里呢？
2024-07-30 21:32
PIC单片机的BootLoad文件在哪里存放着，查找到实在C18中，但是没有在安装文件找到，请问有知道的吗
2023-11-02 06:07
请问IEEE 802.12e的标准在哪下载？IEEE官网上都下不到，但是确实有这个版本的标准，到底能在哪里可以下得到资料？求各位大大帮忙！！！
2012-11-30 10:10
