中国是目前世界上消费芯片最多的国家，每年的芯片进口额已超过了石油的进口额。虽然中国芯片行业也已经取得了小有成就，但在世界上还是处于落后的水平，芯片的落后少不了因为光刻机的原因，那么光刻机的难度究竟在
2022-01-03 17:16
在半导体制造过程中，光刻机是最核心的设备，同时，也是研发难度最高的设备。
2022-07-07 09:38
关于光刻工艺的原理，大家可以想象一下胶片照片的冲洗，掩膜版就相当于胶片，而光刻机就是冲洗台，它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上，然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。 当然
2020-07-07 14:22
把被摄物体的影像复制到底片上。 而ASML光刻机在做的光刻，我们称之为微影制程，原理是将高能雷射光穿过光罩（reticle），将光罩上的电路图形透过聚光镜（projectionlens），将影像缩小
2020-09-02 17:38
因为这两年卡脖子问题十分突出，越来越多的普通中国人都知道了光刻机这个东西。但听过光刻机这个词，不代表真正了解它。
2022-12-20 10:57
光刻机的难度在于要满足复杂的制程需求、高精度的要求以及大规模生产的挑战。为了应对这些挑战，光刻机制造商需要投入大量的研发资源和技术创新，不断提升设备性能和稳定性。
2023-06-28 16:37
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
刻蚀机不能代替光刻机。光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀机高出很多，在需要光刻机
2022-02-05 15:47
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外
2022-07-10 14:53
大家要关注的是“365nm的光源，单次曝光线宽可达22nm”。注意到我加黑的那几个关键词了吗？22nm指标虽然很棒但是业界早就做过了，到底哪里厉害呢？所以关键是用365nm
2018-12-03 16:48
