本文介绍了用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术。 芯片制造：光刻技术的演进 过去半个多世纪，摩尔定律一直推动着半导体技术的发展，但当
2024-11-24 11:04
在EUV光刻机方面，荷兰ASML（阿斯麦）公司垄断了目前的EUV光刻机，去年出货26台，创造了新纪录。据报道，ASML公司正在研发新一代EUV光刻机，预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:13
一、2021年的交付量将是2019年的两倍左右 据国外媒体报道，在推出两代极紫外光刻机之后，阿斯麦公司又已在研发下一代极紫外光刻机，计划2022年年初开始出货。 阿斯麦是在2019年的年报中，披露
2020-03-18 09:16
是有关系的，有公式可以计算： 光刻机分辨率=k1*λ/NA （k1是常数，不同的光刻机k1不同，λ指的是光源波长，NA是物镜的数值孔径，所以光刻机的
2020-07-07 14:22
光刻机的分辨率受光源波长（λ）、工艺因子（k1）和数值孔径（NA）三个主要参数的影响。根据瑞利第一公式（CD = k1*λ/NA），这三个参数共同决定了光刻机的分辨率。
2024-11-28 09:58
3nm制程，据了解，更加先进的制程就需要更先进的光刻机来完成了。 光刻机厂商ASML为此正在研发新一代High NA EUV光刻机，这种EUV光刻机的NA数值孔径比现在
2022-06-28 15:07
据韩媒报道称，ASML正积极投资研发下一代EUV光刻机，与现有光刻机相比，二代EUV光刻机最大的变化就是High NA透镜，通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩
2019-08-07 11:24
数值孔径，是影响分辨率(R)，焦深（DOF）的重要参数，公式为： R=k1⋅λ/NA DOF=k2⋅λ/NA2 其中，λ为波长，k1,k2均为工艺因子。从公式可以看出：提高NA可以提升光刻分辨率，增大NA
2025-01-20 09:44
！光刻机本身的原理，其实和相机非常相似，同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理，是被摄物体被光线照射所反射的光线，透过相机的镜头，将影像投射并聚焦在相机的底片（感光元件）上，如此便可
2020-09-02 17:38
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
